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翁俊

【 发布日期:2016-07-10 | 点击:


 

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姓名:翁俊

职称:讲师

邮箱:596255265@qq.com

地址:湖北省武汉市金沙集团wwW3354CCA206

 

教育及工作经历

2014年-今:金沙集团wwW3354CC,材料物理专业,讲师

2011年-2014年:中科院合肥物质科学研究院等离子体物理研究所,等离子体物理专业,博士学位

2008年-2011年:金沙集团wwW3354CC,材料学专业,硕士学位

2004年-2008年:金沙集团wwW3354CC,材料物理专业,学士学位

 

研究方向

等离子体技术及应用

微波等离子体化学气相沉积技术及应用

金刚石材料的制备及应用

 

主讲课程

材料导论(本科生)

等离子体化学与工艺(研究生)

等离子体诊断(研究生)

 

科研项目

横向基金:微波等离子体外延生长单晶金刚石工艺及设备的研发,2017年,主持。

横向基金:专业设备升降机系统的研制,2015年,主持。

湖北省教育厅科学技术研究计划优秀中青年人才项目:微波谐振腔模式转换器的研究,2015年,参与。

 

代表性成果

论文

(1)Weng J , Liu F , Xiong L W , et al. Investigation onthe influence of high deposition pressure on the mcirostructure and hydrogenimpurity incorporated in nanocrystalline diamond films. Journal of CrystalGrowth, 2018, 495:1-8.

(2)Weng J , Liu F , Xiong L W , et al. Deposition of large areauniform diamond films by microwave plasma CVD. Vacuum, 2018, 147: 134-142.

(3) Weng J , Wang J H , Dai S Y , et al. Preparation ofdiamond films with controllable surface morphology, orientation and quality inan overmoded microwave plasma CVD chamber. Applied Surface Science, 2013,276(276):529-534.

(4) Weng J , Xiong L W , Wang J H , et al. Investigation ofdepositing large area uniform diamond films in multi-mode MPCVD chamber.Diamond & Related Materials, 2012, 30:15-19.

(5) Weng J , Xiong L , Wang J , et al. Effect of Gas Sourceson the Deposition of Nano-Crystalline Diamond Films Prepared by MicrowavePlasma Enhanced Chemical Vapor Deposition. Plasma Science and Technology, 2010,12(6):761-764.